化学物質の排出削減取り組み
化学物質の排出削減のため、各種プロジェクトを進めています
半導体やハードディスクドライブの製造工程においてはいろいろな化学物質を使用しておりますが、セミコンダクター＆ストレージ社グループは化学物質の使用後の大気・水域への化学物質の排出を抑えるために社内のプロジェクトを立ち上げて活動しています。対象の化学物質はPRTR対象物質を含め60物質群になります。活動目標は半導体製品に関しては2012年度に130％以内（2000年度比）に排出量を抑制することとしています。また、ハードディスクドライブとエンタープライズ向けSSD製品については、2009年度基準の生産台数原単位の排出量を2012年度までに6％削減する目標を掲げています。2010年度の半導体製品に関する実績は、前年度に比べて生産が増加したことから2000年度比で219％以下に抑えるという目標に届きませんでした。また、ハードディスクドライブとエンタープライズ向けSSD製品の2010年度目標については、ストレージ製品の生産減少による製品1 単位当たりの化学物質使用量が増えたため、未達成となっています。総量の抑制は容易ではありませんが、使用量対策（削減、代替化、プロセス変更、など）と除害の両面で取り組んでいます。今後は、VOC（揮発性有機化合物）の除害を中心に対策を行い、2012年度の目標を達成すべく活動を進めてまいります。
- 化学物質排出量の推移
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- (このデータは国内外の製造事業場が対象です。)
以下に、2010年度のPRTR対象物質で1t以上の取り扱いがあった物質の内訳を紹介します。排出される前には多くが除害処理されています。また、廃棄物移動のものも再資源化されるなど適切な管理がされています。
| 法令で定めた物質番号 | 化学物質名 | 取扱量 | 排出量合計 | 移動量 | 消費量 | 除去処理量 | リサイクル量 | ||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 廃棄物としての移動量 | 下水道への移動 | 合計 | |||||||
| 374 | ふっ化水素及びその水溶性塩 | 2,790.5 | 2.5 | 57.4 | 7.5 | 64.9 | 0.0 | 2,723.1 | 0.0 |
| 71 | 塩化第二鉄 | 664.7 | 0.0 | 0.0 | 0.0 | 0.0 | 0.0 | 664.6 | 0.0 |
| 395 | ペルオキソ二硫酸の水溶性塩 | 166.0 | 0.0 | 9.5 | 0.0 | 9.5 | 0.0 | 156.5 | 0.0 |
| 20 | 2-アミノエタノール | 84.5 | 0.1 | 79.6 | 0.0 | 79.6 | 0.0 | 4.8 | 0.0 |
| 31 | アンチモン及びその化合物 | 54.7 | 0.0 | 20.0 | 0.0 | 20.0 | 34.7 | 0.0 | 0.0 |
| 213 | N, N–ジメチルアセトアミド | 34.0 | 0.3 | 31.6 | 0.0 | 31.6 | 0.0 | 0.2 | 1.9 |
| 80 | キシレン | 18.1 | 4.7 | 7.5 | 0.0 | 7.5 | 0.0 | 6.0 | 0.0 |
| 272 | 銅水溶性塩(錯塩を除く) | 13.1 | 0.0 | 12.3 | 0.5 | 12.8 | 0.4 | 0.0 | 0.0 |
| 296 | 1，2，4-トリメチルベンゼン | 12.4 | 0.9 | 3.6 | 0.0 | 3.6 | 0.0 | 0.4 | 7.4 |
| 230 | 鉛 | 8.7 | 0.0 | 0.3 | 0.0 | 0.3 | 7.4 | 0.0 | 1.0 |
| 343 | ピロカテコール | 8.5 | 0.0 | 7.8 | 0.0 | 7.8 | 0.0 | 0.7 | 0.0 |
| 438 | メチルナフタレン | 7.3 | 0.1 | 6.5 | 0.0 | 6.5 | 0.0 | 0.6 | 0.0 |
| 53 | エチルベンゼン | 5.2 | 1.9 | 1.7 | 0.0 | 1.7 | 0.0 | 1.7 | 0.0 |
| 297 | 1，3，5-トリメチルベンゼン | 5.0 | 0.9 | 2.4 | 0.0 | 2.4 | 0.0 | 0.1 | 1.5 |
| 291 | 1，3，5-トリス(2，3-エポキシプロピル)-1，3，5-トリアジン-2，4，6(1H，3H，5H)-トリオン | 4.3 | 0.0 | 1.0 | 0.0 | 1.0 | 3.4 | 0.0 | 0.0 |
| 30 | 直鎖アルキルベンゼンスルホン酸及びその塩(アルキル基の炭素数が10から14までのもの及びその混合物に限る) | 3.6 | 0.0 | 3.6 | 0.0 | 3.6 | 0.0 | 0.0 | 0.0 |
| 302 | ナフタレン | 2.6 | 0.1 | 2.0 | 0.0 | 2.0 | 0.0 | 0.5 | 0.0 |
| 82 | 銀及びその水溶性化合物 | 2.5 | 0.0 | 0.1 | 0.0 | 0.1 | 2.1 | 0.0 | 0.2 |
| 405 | ほう素化合物 | 2.2 | 0.1 | 2.0 | 0.0 | 2.0 | 0.0 | 0.1 | 0.0 |
| 349 | フェノール | 1.7 | 0.0 | 1.6 | 0.1 | 1.7 | 0.0 | 0.0 | 0.0 |
| 308 | ニッケル | 1.2 | 0.0 | 0.0 | 0.0 | 0.0 | 0.9 | 0.0 | 0.3 |
| 341 | ピペラジン | 1.1 | 0.6 | 0.0 | 0.0 | 0.0 | 0.0 | 0.5 | 0.0 |
| 340 | ビフェニル | 1.1 | 0.0 | 1.1 | 0.0 | 1.1 | 0.0 | 0.0 | 0.0 |
- ※ 東芝セミコンダクター＆ストレージ社グループ全事業場のデータを示しています。PRTR 法では年間取扱量が1t（特定第1種指定化学物質の 場合0.5 t）以上の物質が届け出対象になります。取り扱い量0.1t以上の詳細データは「PRTR対象物質(取扱量・排出量)2010年度実績」をご覧ください。
- ※ 小数点以下第2位を四捨五入しています。
- PRTR対象物質の取扱量について
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- 2010年度（東芝 セミコンダクター＆ストレージ社グループの取扱量）
- グループ全体の取扱量・排出量詳細 2010年度実績 (PDF:89KB)
- 拠点別の取扱量・排出量詳細 2010年度実績 (PDF:123KB)
- 2009年度（東芝 セミコンダクター社グループの取扱量）
- グループ全体の取扱量・排出量詳細 2009年度実績 (PDF:90KB)
- 拠点別の取扱量・排出量詳細 2009年度実績 (PDF:129KB)
- 2010年度（東芝 セミコンダクター＆ストレージ社グループの取扱量）
- PRTR対象物質の排出・移動先別等の内訳 (2010年度)
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- (このデータは国内外の製造事業場が対象です。)
